上海微行炉业有限公司

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主营:真空管式炉,真空电阻炉,真空钎焊炉,镍钛材料真空热处理系统,钛合金植入物真空热处理炉,3D打印件真空热处理炉

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  • 镍钛记忆合金真空热处理炉
    镍钛记忆合金真空热处理炉

    TF1000-200-HV-T10技术简介产品用途:主要用于稀土制备、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、硬质合金、镍钛记忆合金、3D打印金属件(钛合金TC4、23钛等)真空热处理、真空钎焊等。主要功能和特点:1、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐

    2021-04-15 86000/台
  • 硬质合金真空钎焊炉
    硬质合金真空钎焊炉

    真空钎焊炉CUT250技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却

    2021-04-15 23000/台
  • 箱式气氛热处理炉
    箱式气氛热处理炉

    气氛炉AF1200-50参数简介设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺

    2021-04-15 36300/台
  • 真空管式炉 、高真空管式炉
    真空管式炉 、高真空管式炉

    设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、

    2021-04-15 56000/台
  • 金刚石真空钎焊炉
    金刚石真空钎焊炉

    VF1300-422型真空炉技术参数(金属屏)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;硬质合金工具、金刚石砂轮等高真空钎焊;钛合金植入物等材料高真空除气。二、主要参数1、炉型结构:卧式,单室,炉体炉门采用

    2021-04-15 250000/台
  • MCD刀片真空钎焊炉
    MCD刀片真空钎焊炉

    真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、

    2021-04-15 85000/台
  • 800度不锈钢内胆烧结炉 高洁净度炉膛
    800度不锈钢内胆烧结炉 高洁

    设备技术参数:设备型号:AF1400炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm较限温度:1400工作温度:1300控温精度:?1度炉内温均:?5度升温

    2021-04-15 50000/台
  • PECVD等离子化学气相沉积系统
    PECVD等离子化学气相沉积系

    TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调

    2021-04-15 50000/台
  • 1200度气氛保护电炉  气氛烧结炉
    1200度气氛保护电炉 气氛烧

    气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:

    2021-04-15 1688/台
  • 高温真空热处理炉  真空光亮炉
    高温真空热处理炉 真空光亮

    一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行

    2021-04-15 50000/台
  • 1700度氧化锆高温烧结炉
    1700度氧化锆高温烧结炉

    箱式高温炉BF1800-422设备简介:箱式高温炉BF1800-422,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参

    2021-04-15 1688/台
  • 1700℃高温实验马弗炉
    1700℃高温实验马弗炉

    箱式高温炉BF1700-30设备简介:箱式高温炉BF1700-30,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数:设

    2021-04-15 1688/台
  • 1200度高温气氛保护烧结炉
    1200度高温气氛保护烧结炉

    气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:500*

    2021-04-15 1688/台
  • 高真空真空钎焊炉、硬质合金焊接炉
    高真空真空钎焊炉、硬质合金

    真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却

    2021-04-15 1688/台
  • 铍铜真空时效热处理炉
    铍铜真空时效热处理炉

    产品型号TF1200-200-LV-T7炉管尺寸200*1000mm(管径*管长)尺寸重量1233*410*555mm约重210kg额定电压AC220V50/60Hz额定功率6.5kw

    2021-04-15 25600/台
  • 镍钛材料真空热处理炉
    镍钛材料真空热处理炉

    镍钛材料热处理系统型号:RCF180一、设备示意图:二、设备介绍:我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换,PLC程序控制。三、设备用途:本设备应用领域:镍钛根管锉、镍钛血管支架、接骨板

    2021-04-15 1688/台
  • 镍钛血管支架真空热处理炉
    镍钛血管支架真空热处理炉

    镍钛材料热处理系统型号:RCF180一、设备示意图:二、设备介绍:我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换,PLC程序控制。三、设备用途:本设备应用领域:镍钛根管锉、镍钛血管支架、接

    2021-04-15 1688/台
  • 不锈钢密封件封装焊接炉
    不锈钢密封件封装焊接炉

    真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、

    2020-06-20 50000/台
  • 1600度气氛烧结炉
    1600度气氛烧结炉

    气氛炉AF1400-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1700-50炉膛尺寸:500*

    2020-06-20 50000/台
  • 微行炉业1200℃箱式气氛炉
    微行炉业1200℃箱式气氛炉

    气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:500*

    2020-06-20 1688/台
  • 氮化铝陶瓷基板高温烧结炉
    氮化铝陶瓷基板高温烧结炉

    真空炉VRSF1600-422技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件退火等高温高真空要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材

    2020-06-20 56200/台
  • 现货供应1700度高温箱式烧结炉
    现货供应1700度高温箱式烧结

    1700℃箱式高温炉技术参数产品用途高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小,进行小试,中试,批量生产。产品型号工作尺寸容积较限温度工作温度

    2020-05-20 1688/台
  • 800度蜂窝陶瓷烧结炉
    800度蜂窝陶瓷烧结炉

    气氛炉AF1200-30设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-30炉膛尺寸:30

    2020-05-20 1688/台
  • 钛合金材料气氛保护热处理炉
    钛合金材料气氛保护热处理炉

    气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:500*

    2020-05-20 1688/台
  • 1800度高温箱式烧结炉 马弗炉
    1800度高温箱式烧结炉 马弗

    箱式高温炉BF1800-422-T7设备简介:箱式高温炉BF1800-422,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数:

    2020-05-20 1688/台
  • 1200度高温旋转管式炉
    1200度高温旋转管式炉

    产品型号TF1200-60-R炉管尺寸60*100*1200mm(异形管两端直径60mm,中间直径100mm)额定电压AC220V50/60Hz额定功率3kw炉体结构双层壳体结构,配有风冷系统,可使

    2020-05-16 1688/台
  • 直销1600度气氛烧结炉 氮气保护烧结炉
    直销1600度气氛烧结炉 氮气

    设备技术参数:设备型号:AF1700炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm较限温度:1700工作温度:1600控温精度:?1度炉内温均:?5度升温速率:Max:20℃

    2020-03-20 16788/台
  • 1500度真空气氛烧结炉
    1500度真空气氛烧结炉

    真空炉VRSF1600型技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,

    2020-03-20 1688/台
  • 1800度气氛炉 高温气氛烧结炉
    1800度气氛炉 高温气氛烧结

    设备技术参数:设备型号:AF1700炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm较限温度:1700工作温度:1600控温精度:?1度炉内温均:?5度升温速率:Max:20℃/M

    2020-03-20 1688/台
  • 1000度箱式氮气保护炉 可控气氛电阻炉
    1000度箱式氮气保护炉 可控

    设备技术参数:设备型号:AF1200炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm设计温度:1200工作温度:1100控温精度:?1度炉内温均:?5度升温速率:Max:20℃/Min控制模式:智能PID调

    2020-03-20 1688/台
  • 800度箱式真空气氛炉
    800度箱式真空气氛炉

    简单介绍设备用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍:技术参数设备名称:1200度气氛炉设备

    2020-03-20 1688/台
  • 1500度气氛炉烧结炉 光亮还原炉
    1500度气氛炉烧结炉 光亮还

    简单介绍设备用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍:技术参数设备名称:1200度气氛炉

    2020-03-20 1688/台
  • 真空管式炉 管式气氛炉
    真空管式炉 管式气氛炉

    设备技术参数:设备型号:TF1200炉膛尺寸:440*60/80/100/120/150/200mm较限温度:1200工作温度:1100工作正压:0.05Mpa工作真空:机械泵10^-2torr控温精度:?1℃炉内温均:?2℃升温速率:Max:20

    2020-03-20 1688/台
  • 20CrMnTi钢球化退火炉
    20CrMnTi钢球化退火炉

    1200度高温实验炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。保温节能,体积小,能耗低,重量轻,外形美观大方,结构设计先进合理。1200度高温实验炉主要用途和适用范围:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、农业生产体系物质

    2020-03-20 1688/台
  • 1400度高温真空电阻烧结炉
    1400度高温真空电阻烧结炉

    产品优势:1.LED大屏幕液晶显示,本机集成了真空泵,内循环水冷却系统,避免外接水源的繁锁,使设备的外表面温度更低,美观大方,操作简洁。2.本款产品加热系统,混气系统,真空系统,内循环水冷却系统,监测系统,都可通过控制按钮一键操作。本机功能一体,满足客户绝大部分要求。3.专业的真

    2020-03-20 50000/台
  • 真空气淬炉  高真空气淬炉
    真空气淬炉 高真空气淬炉

    真空气淬炉用途:VGQF1350-644高压气淬真空炉,主要用于高合金工具钢、高速钢、不锈钢的高压气淬及高温合金磁性材料等的真空退火,也可用于粉末冶金的真空烧结,不锈钢及铜钎焊等。结构:VGQF1350-644真空炉是由主机、真空系统、水冷系统、气冷系统、气动系统、电控系统和炉外运输车

    2020-01-16 1688/台
  • 单晶生长炉 CVD系统真空管式炉
    单晶生长炉 CVD系统真空管式

    设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、

    2020-01-16 50000/台
  • X光旋转管真空除气设备
    X光旋转管真空除气设备

    VF1300-644型真空炉技术参数(金属屏)(设计参考图、仅供参考)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;医用记忆合金产品;医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数

    2020-01-16 356000/台
  • PECVD化学气相沉积系统
    PECVD化学气相沉积系统

    PECVD化学气相沉积系统产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置,可准确的控制反应腔体

    2020-01-16 85600/台
  • 货品、集热管高温真空除气炉
    货品、集热管高温真空除气炉

    VF1300-644型真空炉技术参数(金属屏)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;医用记忆合金产品;医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数1、炉型结构:卧式,单室,炉体炉门

    2020-01-16 356000/台