产品描述
此款箱式真空气氛炉为上开门，根据客户要求在顶部增加一个观察孔，方便观察实验过程，额定温度600℃~1800℃；可抽真空，通气氛；使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
箱式真空气氛炉主要适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
一、箱式真空气氛炉产品描述：
1.1此款管式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件；
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制；
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点； 1.4采用全部先进技术，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型；
1.5具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等；
1.6顶部带有观察孔一个，开门方式为上开门。 二、箱式真空气氛炉产品特点：
2.1节能型的陶瓷纤维材料和双层结构，可将外表温度降到常温； 2.2均温区长，操作简便，密封可靠，综合性能指标较高，处于国内优异水平； 2.3可选择配置耐热钢、石英玻璃、刚玉陶瓷等材料炉管； 2.4选配：40段可编程控制器、可选择RS-485串口（另购）实现计算机通讯。 温度及炉膛尺寸均可根据客户需求进行定制！
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